PURCELL PixelBiome™ O₂ Enhancer Modeling Mask

• Niacinamide – Renforce la barrière cutanée, régule l’excès de sébum et unifie le teint tout en réduisant les rougeurs. ✨

• Acide hyaluronique – Hydrate intensément, repulpe la peau et aide à maintenir l’eau dans les tissus. 💧

• Extrait de Centella Asiatica – Apaise les irritations, favorise la réparation cutanée et améliore la cicatrisation. 🌿

• Ferments probiotiques (PixelBiome™) – Soutiennent le microbiome cutané, renforcent la barrière et améliorent la résistance de la peau. 🦠

• Adénosine – Aide à lisser les rides et améliore l’élasticité de la peau. ⏳

• Panthénol – Calme, hydrate et renforce la barrière cutanée contre les agressions extérieures. 🛡️

Apporte une touche “skin clinic coréenne à la maison” avec ce modeling mask. Après avoir nettoyé ton visage, mélange la poudre et l’activateur (ou suis simplement les étapes indiquées) jusqu’à obtenir une texture homogène, puis applique une couche épaisse sur tout le visage en évitant les yeux et la bouche. Laisse poser 15–20 minutes pour booster l’oxygénation et l’équilibre du microbiome, puis retire le masque en une seule pièce et tapote l’excédent de sérum. Idéal en routine K-Beauty 1 à 2 fois par semaine, après le toner et avant ta crème.